| 发明名称 | 一种含氧金属阴离子印迹聚合物及其制备方法 | ||
| 摘要 | 本发明提供了一种含氧金属阴离子印迹聚合物的制备方法：将氮杂环类功能单体和含氧金属阴离子溶解，得到单体‑印迹离子混合溶液；将交联剂和引发剂溶解，得到添加剂混合溶液；在惰性气氛下，将所述单体‑印迹离子混合溶液和添加剂混合溶液进行沉淀反应，得到包含含氧金属阴离子的印迹聚合物；脱去所述包含含氧金属阴离子的印迹聚合物中的含氧金属阴离子，得到含氧金属阴离子印迹聚合物。本发明提供的含氧金属阴离子印迹聚合物具有多孔的骨架结构、比表面积为434.04m<sup>2</sup>/g；此外，选择性和循环稳定性能均有所提升，进一步的提高了含氧金属阴离子印迹聚合物的吸附性能，最高吸附量可达55mg/g。 | ||
| 申请公布号 | CN106279534A | 申请公布日期 | 2017.01.04 |
| 申请号 | CN201610648720.8 | 申请日期 | 2016.08.10 |
| 申请人 | 南昌航空大学 | 发明人 | 罗旭彪;钟卫萍;方俐俐;康仁飞;罗胜联;肖潇;代威力;涂新满 |
| 分类号 | C08F234/00(2006.01)I;C08F222/14(2006.01)I;C08J9/26(2006.01)I;B01J20/26(2006.01)I;B01J20/30(2006.01)I;C02F1/28(2006.01)I | 主分类号 | C08F234/00(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京高沃律师事务所 11569 | 代理人 | 李娜 |
| 主权项 | 一种含氧金属阴离子印迹聚合物的制备方法，包括如下步骤：将氮杂环类功能单体和含氧金属阴离子溶解，得到单体‑印迹离子混合溶液；将交联剂和引发剂溶解，得到添加剂混合溶液；在惰性气氛下，将所述单体‑印迹离子混合溶液和添加剂混合溶液进行沉淀反应，得到包含含氧金属阴离子的印迹聚合物；脱去所述包含含氧金属阴离子的印迹聚合物中的含氧金属阴离子，得到含氧金属阴离子印迹聚合物。 | ||
| 地址 | 330000 江西省南昌市丰和南大道696号 | ||