| 发明名称 | 具有减小的接触面的微机械部件及其制造方法 | ||
| 摘要 | 本发明涉及具有至少一个减少的接触面的硅基部件，所述硅基部件是由这样的方法形成的：所述方法结合了至少一个倾斜侧壁蚀刻步骤和竖直侧壁“博世”蚀刻，所述硅基部件特别是改进了由微加工硅基片形成的部件的摩擦性能。 | ||
| 申请公布号 | CN106276772A | 申请公布日期 | 2017.01.04 |
| 申请号 | CN201610465132.0 | 申请日期 | 2016.06.23 |
| 申请人 | 尼瓦洛克斯-法尔股份有限公司 | 发明人 | A·甘德尔曼;A·皮恩 |
| 分类号 | B81B7/00(2006.01)I;B81C1/00(2006.01)I | 主分类号 | B81B7/00(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京市中咨律师事务所 11247 | 代理人 | 慈戬;吴鹏 |
| 主权项 | 一种用于制造硅基微机械部件(51)的方法，所述方法包括以下步骤：a)取用硅基基体(30)；b)在基体(30)的水平部分上形成掩模(33)，所述掩模穿刺有孔(35)；c)在蚀刻腔室内、在基体(30)的部分厚度中，从掩模(33)的孔(35)蚀刻出大体竖直的壁(36)，从而形成微机械部件(51)的外壁(56)；d)在竖直壁(36)上形成保护层(42)，并且，使得在步骤c)中形成的蚀刻体(39)的底部(38)无任何保护层；e)在蚀刻腔室内、在基体(30)的剩余厚度中，从无保护层的底(38)蚀刻出预先确定的斜壁(37)，从而在微机械部件的外壁(56)下方形成斜的下表面(57)；f)从掩模(33)和基体(30)脱出微机械部件(51)。 | ||
| 地址 | 瑞士勒洛克勒 | ||