发明名称 |
一种通过修饰前驱体来调控碳化硅热导率的方法 |
摘要 |
本发明涉及一种通过修饰前驱体来调控碳化硅热导率的方法,基于前驱体具备分子水平上可设计性的特点,利用分段加热聚合,完成相分离。结合浸渍裂解工艺获得纤维增强的SiC复合材料或通过裂解、用传统陶瓷制备工艺获得SiC制品。制备的材料在显微结构上具备较大差异的晶粒尺寸、相分布模式及界面特性,从而使得SiC材料的热导率在大范围内变动。在特定工艺条件下,SiC材料高温下仍具备较高的热导率。 |
申请公布号 |
CN106278278A |
申请公布日期 |
2017.01.04 |
申请号 |
CN201610602225.3 |
申请日期 |
2016.07.27 |
申请人 |
西北工业大学 |
发明人 |
王一光;李珍宝;张立同;成来飞 |
分类号 |
C04B35/571(2006.01)I;C04B35/622(2006.01)I;C04B35/80(2006.01)I |
主分类号 |
C04B35/571(2006.01)I |
代理机构 |
西北工业大学专利中心 61204 |
代理人 |
王鲜凯 |
主权项 |
一种通过修饰前驱体来调控碳化硅热导率的方法,其特征在于步骤如下:步骤1:将含碳小分子有机物和聚碳硅烷前驱体按质量比为0%-50%进行混合,利用两者聚合性能差异,通过分段加热进行相分离实现对聚碳硅烷前驱体的修饰;所述含碳小分子有机物需含双键官能团,或需含苯环,或同时含有双键和苯环;所述聚碳硅烷需含硅氢键,或需含碳碳双键;所述分段加热指在50‑110℃可控聚合30‑80min,再升温至130‑250℃进一步聚合1‑24h,实现聚合物前驱体的相分离修饰;步骤2:将修饰的聚碳硅烷前驱体在600‑1400℃进行裂解,再用常用陶瓷制备工艺获得热导率可控的SiC。 |
地址 |
710072 陕西省西安市友谊西路127号 |