发明名称 一种通过修饰前驱体来调控碳化硅热导率的方法
摘要 本发明涉及一种通过修饰前驱体来调控碳化硅热导率的方法,基于前驱体具备分子水平上可设计性的特点,利用分段加热聚合,完成相分离。结合浸渍裂解工艺获得纤维增强的SiC复合材料或通过裂解、用传统陶瓷制备工艺获得SiC制品。制备的材料在显微结构上具备较大差异的晶粒尺寸、相分布模式及界面特性,从而使得SiC材料的热导率在大范围内变动。在特定工艺条件下,SiC材料高温下仍具备较高的热导率。
申请公布号 CN106278278A 申请公布日期 2017.01.04
申请号 CN201610602225.3 申请日期 2016.07.27
申请人 西北工业大学 发明人 王一光;李珍宝;张立同;成来飞
分类号 C04B35/571(2006.01)I;C04B35/622(2006.01)I;C04B35/80(2006.01)I 主分类号 C04B35/571(2006.01)I
代理机构 西北工业大学专利中心 61204 代理人 王鲜凯
主权项 一种通过修饰前驱体来调控碳化硅热导率的方法,其特征在于步骤如下:步骤1:将含碳小分子有机物和聚碳硅烷前驱体按质量比为0%-50%进行混合,利用两者聚合性能差异,通过分段加热进行相分离实现对聚碳硅烷前驱体的修饰;所述含碳小分子有机物需含双键官能团,或需含苯环,或同时含有双键和苯环;所述聚碳硅烷需含硅氢键,或需含碳碳双键;所述分段加热指在50‑110℃可控聚合30‑80min,再升温至130‑250℃进一步聚合1‑24h,实现聚合物前驱体的相分离修饰;步骤2:将修饰的聚碳硅烷前驱体在600‑1400℃进行裂解,再用常用陶瓷制备工艺获得热导率可控的SiC。
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