| 摘要 |
본 발명은 복수의 기판처리 장치를 순차적으로 적층한 기판처리 시스템으로서, 상기 기판처리 장치는, 기판처리 공간을 제공하는 챔버를 포함하는 본체; 및 상기 본체의 상하방향으로 이동가능하게 설치되어 상기 본체의 전면을 개폐하는 도어;를 포함하고, 복수의 상기 기판처리 장치는, 하부층으로부터 상부층으로 갈수록 상기 본체의 전면 방향으로 소정 거리 시프팅(shifting)되면서 순차적으로 적층된 것을 특징으로 하는, 기판처리 시스템을 제공한다. |
