发明名称 |
一种选择性调整尺寸图形的添加方法 |
摘要 |
本发明提供了一种选择性调整尺寸图形的添加方法,对光掩膜图形进行修正,包括:计算预添加选择性调整尺寸图形的边所在位置的线宽和间距;按照预先设定的选择性调整尺寸图形表格对预添加选择性调整尺寸图形的边进行预先移动;检查预先移动后的图形的边的线宽和间距;判断预先移动后的图形的边所在位置是否违反所设定的设计规则;如果否,则对预先移动后的图形的边按照所述表格添加偏移量,从而得到目标图形;如果是,直接对移动后违反设计规则的边进行循环后退,直至符合设计规则,从而得到目标图形。本发明对预移动后,针对因设计规则限制无法添加偏移量的地方,可以适当添加偏移量,从而减少断裂和桥接的发生。 |
申请公布号 |
CN106292173A |
申请公布日期 |
2017.01.04 |
申请号 |
CN201610704692.7 |
申请日期 |
2016.08.22 |
申请人 |
上海华力微电子有限公司 |
发明人 |
齐雪蕊;何大权;魏芳;朱骏;吕煜坤;张旭升 |
分类号 |
G03F1/36(2012.01)I |
主分类号 |
G03F1/36(2012.01)I |
代理机构 |
上海天辰知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 31275 |
代理人 |
吴世华;陈慧弘 |
主权项 |
一种选择性调整尺寸图形的添加方法,对光掩膜图形进行修正,其特征在于,包括:步骤01:计算预添加选择性调整尺寸图形的边所在位置的线宽和间距;步骤02:按照预先设定的选择性调整尺寸图形表格对预添加选择性调整尺寸图形的边进行预先移动;步骤03:检查预先移动后的图形的边的线宽和间距;步骤04:判断预先移动后的图形的边所在位置是否违反所设定的设计规则;如果否,则对预先移动后的图形的边按照所述表格添加偏移量,从而得到目标图形;如果是,直接执行步骤05;步骤05:对移动后违反设计规则的边进行循环后退,直至符合设计规则,从而得到目标图形。 |
地址 |
201210 上海市浦东新区张江高科技园区高斯路568号 |