发明名称 一种具有选择特性的阻变存储器及其制备方法
摘要 本发明公开了一种具有选择特性的阻变存储器及其制备方法。本发明的阻变存储器包括:顶电极、底电极以及二者之间的功能层;其中,功能层包括第一氧化层和第二氧化层;第一氧化层为靠近顶电极的完全配比的氧化层;第二氧化层为靠近底电极的非完全配比的氧化层。本发明采用分两次淀积功能层,形成具有氧组分不同的两层氧化层的功能层,靠近顶电极为完全配比的氧化层,而靠近底电极为非完全配比的氧化层;在顶电极与完全配比的氧化层之间势垒会明显提高,电子只能靠肖特基发射实现导电,低阻态具有非线性,器件具有选择特性。本发明在有效抑制误读现象的情况下,无需串联专门的选择管,工艺简单,成本低;并且与现有工艺兼容,有利于大规模工业生产。
申请公布号 CN103682095B 申请公布日期 2017.01.04
申请号 CN201310717874.4 申请日期 2013.12.23
申请人 北京大学 发明人 黄如;李强;蔡一茂;刘业帆;潘岳;余牧溪
分类号 H01L45/00(2006.01)I 主分类号 H01L45/00(2006.01)I
代理机构 北京万象新悦知识产权代理事务所(普通合伙) 11360 代理人 王岩
主权项 一种具有选择特性阻变存储器,其特征在于,所述阻变存储器包括:顶电极(1)、底电极(4)以及在二者之间的功能层;其中,功能层包括第一氧化层(2)和第二氧化层(3);所述第一氧化层(2)为靠近顶电极的完全配比的氧化层;所述第二氧化层(3)为靠近底电极的非完全配比的氧化层;功能层采用氧化钽,靠近顶电极的第一氧化层(2)氧组分充足,形成完全配比的Ta<sub>2</sub>O<sub>5</sub>氧化层,靠近底电极的第二氧化层(3)氧组分不足,形成非完全配比的TaO<sub>x</sub>氧化层;其中x为氧与钽的原子数比;在顶电极与完全配比的氧化层之间势垒提高,电子只能靠肖特基发射实现导电,具有选择特性。
地址 100871 北京市海淀区颐和园路5号