一种制备大面积高密度核径迹纳米孔膜的设备、方法及膜

摘要

本发明涉及一种制备大面积高密度核径迹纳米孔膜的设备及方法，所述设备包括一蚀刻发生装置，所述蚀刻发生装置包括一夹持部和一液体盛装部，夹持部将潜径迹膜夹持并固定在盛有蚀刻液的液体盛装部，利用一超声波发生器，提供间歇超声波作用，将滞留在径迹孔中的蚀刻产物及时剥离，利用一紫外灯，对潜径迹膜辐照敏化，加快蚀刻速率。本发明实现薄膜均匀蚀刻；用超声波将蚀刻产物剥离，使蚀刻液与潜径迹充分接触，从而加速径迹蚀刻速率，采用间歇超声波作用，避免薄膜因为超声波长时间震动而破裂的危险；此种径迹纳米孔膜具有优良的抗反射性能，由于其面积大，孔密度高，使其应用范围更加广泛。

主权项

一种大面积高密度核径迹纳米孔膜的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：步骤1：将潜径迹膜切割，固定在载膜夹中，所述载膜夹包括一母夹和一子夹，所述母夹为框式结构，框的截面为倒置的L形，且所述框底部四周边缘向内设有第一延伸板，用以支撑所述的潜径迹膜，所述子夹与所述母夹配合，所述子夹、所述母夹边框相同位置处设有钻孔，所述潜径迹膜放在所述子夹与所述母夹之间，在所述钻孔处用固定件将所述子夹与所述母夹固定；步骤2：将所述的潜径迹膜进行表面清洁处理并晾干；步骤3：对所述潜径迹膜进行预蚀刻；步骤4：取出所述载膜夹，用紫外灯辐照敏化所述预蚀刻的潜径迹膜的两个表面；步骤5：对所述潜径迹膜进行超声波间歇蚀刻成为核径迹纳米孔膜；步骤6：取出所述核径迹纳米孔膜，清洗晾干。