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(과제) 포지티브형 레지스트 조성물, 레지스트 패턴 형성 방법, 산 확산 제어제 및 고분자 화합물의 제공. (해결 수단) 노광에 의해 산을 발생하고, 또한, 산의 작용에 의해 알칼리 현상액에 대한 용해성이 증대하는 포지티브형 레지스트 조성물로서, 산의 작용에 의해 알칼리 현상액에 대한 용해성이 증대하는 기재 성분 (A) 와, 하기 일반식 (m0) 으로 나타내는 화합물 (m) 을 함유하는 것을 특징으로 하는, 포지티브형 레지스트 조성물. [식 (m0) 중, Z∼ Z는, 전자 흡인성의 치환기, Rb및 Rb는, 알킬기, 치환기를 가지고 있어도 되는 지환식 탄화수소기 또는 수산기, Rb은, 치환기를 가지고 있어도 되는 아릴기, 알킬기 또는 알케닐기이고, n1 및 n2 는, 0 ∼ 3 의 정수, X0는 유기 아니온.] [화학식 1] |
