发明名称 |
掩膜版、制造透镜的方法、透镜及显示装置 |
摘要 |
本发明公开了一种掩膜版、制造透镜的方法、透镜及显示装置,属于显示技术领域。该掩膜版用于制造透镜,该掩膜版的包括两个透光区域,其中第二区域的透过率非均匀分布,且与待形成透镜的厚度分布相关。在制造透镜的过程中,对经过该掩膜版曝光后的光刻胶进行显影后,残留的光刻胶即可直接形成透镜。因此采用该掩膜版制造透镜时无需再对光刻胶进行加热和熔融成型,解决了相关技术中透镜制造方法复杂的问题,降低了透镜的制造成本。本发明用于制造透镜。 |
申请公布号 |
CN106292172A |
申请公布日期 |
2017.01.04 |
申请号 |
CN201610853390.6 |
申请日期 |
2016.09.26 |
申请人 |
京东方科技集团股份有限公司 |
发明人 |
马新利;高健;杨亚锋;王灿;王维;谭纪风;张粲 |
分类号 |
G03F1/32(2012.01)I;G02B3/00(2006.01)I |
主分类号 |
G03F1/32(2012.01)I |
代理机构 |
北京三高永信知识产权代理有限责任公司 11138 |
代理人 |
滕一斌 |
主权项 |
一种掩膜版,其特征在于,所述掩膜版用于制造透镜,所述掩膜版包括:第一区域和第二区域;所述第一区域内各点的透过率相同,所述第二区域内的透过率非均匀分布,且所述第二区域内的透过率分布与待形成透镜的厚度分布相关,所述待形成透镜的厚度方向垂直于所述掩膜版的入光面。 |
地址 |
100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号 |