发明名称 掩膜版、制造透镜的方法、透镜及显示装置
摘要 本发明公开了一种掩膜版、制造透镜的方法、透镜及显示装置,属于显示技术领域。该掩膜版用于制造透镜,该掩膜版的包括两个透光区域,其中第二区域的透过率非均匀分布,且与待形成透镜的厚度分布相关。在制造透镜的过程中,对经过该掩膜版曝光后的光刻胶进行显影后,残留的光刻胶即可直接形成透镜。因此采用该掩膜版制造透镜时无需再对光刻胶进行加热和熔融成型,解决了相关技术中透镜制造方法复杂的问题,降低了透镜的制造成本。本发明用于制造透镜。
申请公布号 CN106292172A 申请公布日期 2017.01.04
申请号 CN201610853390.6 申请日期 2016.09.26
申请人 京东方科技集团股份有限公司 发明人 马新利;高健;杨亚锋;王灿;王维;谭纪风;张粲
分类号 G03F1/32(2012.01)I;G02B3/00(2006.01)I 主分类号 G03F1/32(2012.01)I
代理机构 北京三高永信知识产权代理有限责任公司 11138 代理人 滕一斌
主权项 一种掩膜版,其特征在于,所述掩膜版用于制造透镜,所述掩膜版包括:第一区域和第二区域;所述第一区域内各点的透过率相同,所述第二区域内的透过率非均匀分布,且所述第二区域内的透过率分布与待形成透镜的厚度分布相关,所述待形成透镜的厚度方向垂直于所述掩膜版的入光面。
地址 100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号