| 摘要 |
본 발명은 CMP(Chemical Mechanical Polishing) 장비에 슬러리를 공급하는 장치 및 그 제어 방법에 관한 것으로서, 슬러리 원액, 과산화수소수(HO) 및 초순수(deionized water)를 혼합하여 요구되는 농도의 슬러리를 생성하는 슬러리 혼합부; 생성된 슬러리를 저장하는 슬러리 저장부; 및 상기 슬러리 저장부에 저장된 슬러리를 인출하여 상기 CMP 장비에 공급하거나, 인출한 상기 슬러리를 상기 슬러리 저장부에 주입하는 순환 공급부를 포함하는 슬러리 공급 장치 및 그 제어 방법을 제공한다. |
