发明名称 |
激光刻蚀方法和装置、衬底电极及电致发光器件 |
摘要 |
本发明公开了一种激光刻蚀方法和装置、衬底电极及电致发光器件。该激光刻蚀方法包括利用激光束对待刻蚀对象进行刻蚀的步骤,待刻蚀对象上设有至少一个待刻蚀区域,激光束包括用于使待刻蚀区域内的导电材料气化的主激光束,以及用于降低待刻蚀区域边缘对应空间内的温度下降速率的辅助激光束。本发明在刻蚀步骤中采用两种类型的激光束:主激光束能使待刻蚀区域内的导电材料气化,而辅助激光束用于提高待刻蚀区域边缘对应空间内的温度,从而降低待刻蚀区域边缘对应空间内的温度下降速率,防止气化的导电材料在从待刻蚀区域对应空间向外扩散的过程中因待刻蚀区域边缘对应空间内温度过低而发生沉积,避免在待刻蚀对象表面形成凸起。 |
申请公布号 |
CN106271046A |
申请公布日期 |
2017.01.04 |
申请号 |
CN201610871505.4 |
申请日期 |
2016.09.30 |
申请人 |
纳晶科技股份有限公司 |
发明人 |
陈超 |
分类号 |
B23K26/06(2014.01)I;B23K26/362(2014.01)I;B23K26/067(2006.01)I;B23K26/064(2014.01)I;B23K101/40(2006.01)N |
主分类号 |
B23K26/06(2014.01)I |
代理机构 |
杭州橙知果专利代理事务所(特殊普通合伙) 33261 |
代理人 |
曾祥兵 |
主权项 |
一种激光刻蚀方法,包括利用激光束对待刻蚀对象进行刻蚀的步骤,所述待刻蚀对象包括导电材料,所述待刻蚀对象上设有至少一个待刻蚀区域,其特征在于,所述激光束包括用于使待刻蚀区域内的导电材料气化的主激光束,以及用于降低所述待刻蚀区域边缘对应空间内的温度下降速率的辅助激光束。 |
地址 |
310052 浙江省杭州市滨江区秋溢路500号1幢4楼405-407室 |