发明名称 Semiconductor device
摘要 누설 전류를 경감시켜 동작 성능 및 신뢰성을 향상시킨 반도체 장치를 제공하는 것이다. 상기 반도체 장치는 서로 마주보는 제1 단변 및 제2 단변을 포함하는 핀형 패턴, 상기 제1 단변에 접하도록 형성되는 제1 트렌치, 상기 제2 단변에 접하도록 형성되는 제2 트렌치, 상기 제1 트렌치 내에 형성되고, 상기 제1 단변으로부터 순차적으로 위치하는 제1 부분과 제2 부분을 포함하는 제1 필드 절연막으로, 상기 제1 부분의 높이는 상기 제2 부분의 높이와 다른 제1 필드 절연막, 상기 제2 트렌치 내에 형성되는 제2 필드 절연막, 및 상기 제1 필드 절연막의 제1 부분 상에 배치되는 제1 더미 게이트를 포함한다.
申请公布号 KR20170000539(A) 申请公布日期 2017.01.03
申请号 KR20150089534 申请日期 2015.06.24
申请人 삼성전자주식회사 发明人 정재엽;김현조;박성율;박세완;윤종밀;이정효;이화성;정희돈;하지용
分类号 H01L29/78 主分类号 H01L29/78
代理机构 代理人
主权项
地址