PLASMA DEVICE

摘要

본 발명의 기판 지그는 챔버에서 플라즈마 처리되는 제1 기판이 수용되는 운반 유니트를 포함하고, 상기 운반 유니트는 상기 제1 기판과 함께 상기 챔버에서 플라즈마 처리될 수 있다.