A composition for striping of photoresist

摘要

본 발명은 포토레지스트 스트립 공정에서 온도조건에 따른 휘발이 발생하는 양을 줄여 조성 변화가 없도록 하며, 동시에 변질 또는 경화된 포토레지스트가 제거되는 동안 상기 조성물에 의해 금속 배선이나 산화막, 질화막의 부식이 일어나는 것을 막고, 박리 효과도 우수한 포토레지스트 스트리퍼 조성물을 제공한다.