发明名称 METHOD FOR PREPARING MULTI-COMPONENT THIN FILM
摘要 본 발명의 다성분계 박막 형성방법은 챔버 내의 기판 상에 제1 전구체를 흡착시키는 단계; 상기 제1 전구체 중 미반응 전구체를 제거하기 위하여 퍼지하는 단계; 상기 제1 전구체가 흡착된 기판에 플라즈마 처리를 행하는 단계; 상기 기판 상에 제2 전구체를 흡착시키는 단계; 상기 제2 전구체 중 미반응 전구체를 제거하기 위하여 퍼지하는 단계; 상기 챔버 내에 반응가스를 공급하여, 상기 흡착된 제1 전구체 및 제2 전구체와 상기 반응가스를 표면반응시키는 단계; 및 상기 반응가스 중 미반응 반응가스 및 반응부산물을 제거하기 위하여 퍼지하는 단계를 포함한다. 본 발명에 따르면, 박막 내 조성 조절이 용이하고, 조성비가 더욱 균일하여, 유전 특성이 향상되고, 누설 전류 문제가 개선된 다성분계 박막을 형성할 수 있다.
申请公布号 KR101688891(B1) 申请公布日期 2017.01.03
申请号 KR20100130245 申请日期 2010.12.17
申请人 에스케이하이닉스 주식회사 发明人 백건훈;이기정;도관우;박경웅;안지훈
分类号 H01L21/02;H01L21/324 主分类号 H01L21/02
代理机构 代理人
主权项
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