发明名称 METHOD FOR MANUFACTURING GLASS SUBSTRATE FOR MASK BLANK METHOD FOR MANUFACTURING MASK BLANK AND METHOD FOR MANUFACTURING PHOTOMASK FOR EXPOSURE
摘要 주표면인 표ㆍ이면과 4개의 단면과의 6면을 갖는 박판 형상을 이룬 마스크 블랭크용 글래스 기판의 상기 어느 하나의 단면으로부터 파장이 200㎚ 이하의 파장의 광인 검사광을 상기 글래스 기판 내에 도입하고, 그 검사광에 의해 글래스 기판의 내부 결함으로부터 발생되는 형광을 검출하고, 검출한 형광에 기초하여 글래스 기판의 내부 결함을 검출한다. 그때에, 상기 단면으로부터 입사하는 검사광을, 글래스 기판의 표ㆍ이면에 대하여 2.0°∼4.0° 기울어지게 한다.
申请公布号 KR101692087(B1) 申请公布日期 2017.01.02
申请号 KR20117018467 申请日期 2010.01.05
申请人 호야 가부시키가이샤 发明人 다나베, 마사루
分类号 G03F1/84;G01N21/64;G01N21/956;G01N21/958;G03F1/00;G03F1/50 主分类号 G03F1/84
代理机构 代理人
主权项
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