发明名称 Apparatus and Method for producing polycrystalline silicon using multi-way feeding
摘要 본 발명에 따르면, 반응 공간이 내부에 구비된 반응관; 상기 반응관의 상부 중심에 배치되어 제 1 기체를 반응관의 내측 표면을 향하여 경사지게 공급할 수 있는 중심 공급 노즐; 상기 반응관의 상부에서 반응관의 내측 주위를 따라 배치되어 제 2 기체를 반응관의 내측 표면상에 공급할 수 있는 하나 이상의 주변 공급 노즐; 및, 상기 반응관을 가열하도록 상기 반응관 외부에 배치된 가열부;를 구비하는, 실리콘 제조용 반응 장치가 제공된다.
申请公布号 KR20170000097(A) 申请公布日期 2017.01.02
申请号 KR20150088841 申请日期 2015.06.23
申请人 주식회사 엘지화학 发明人 장은수;김유석;김정규;유진형;이정우
分类号 C01B33/027;B01J12/00;C01B33/029;C01B33/03 主分类号 C01B33/027
代理机构 代理人
主权项
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