发明名称 一种掩膜板、对其曝光的方法以及电路面板的制造方法
摘要 本发明提供一种掩膜板、对其曝光的方法以及互电容触控电路面板的制造方法,掩膜板,所述掩膜板包括第一遮挡区域、第二遮挡区域及第三遮挡区域;其中,第一遮挡区域、第二遮挡区域及第三遮挡区域对应互电容触控电路面板的图层图案区;所述第一遮挡区域采用紫外光波段a的吸光材料作为掩膜板挡光材料;所述第三遮挡区域采用紫外光波段b的吸光材料作为掩膜板挡光材料。本发明可以实现同一张掩膜板做出不同的光刻图案,可减少掩膜板的数量,进而节省成本。
申请公布号 CN106200258A 申请公布日期 2016.12.07
申请号 CN201610796433.1 申请日期 2016.08.31
申请人 深圳市华星光电技术有限公司 发明人 徐向阳
分类号 G03F1/54(2012.01)I;G03F7/20(2006.01)I;G06F3/044(2006.01)I 主分类号 G03F1/54(2012.01)I
代理机构 北京聿宏知识产权代理有限公司 11372 代理人 王浩
主权项 一种掩膜板,其特征在于,所述掩膜板包括:第一遮挡区域、第二遮挡区域及第三遮挡区域;所述第一遮挡区域采用紫外光波段a的吸光材料作为掩膜板挡光材料;所述第三遮挡区域采用紫外光波段b的吸光材料作为掩膜板挡光材料。
地址 518132 广东省深圳市光明新区塘明大道9-2号