| 发明名称 | 标记、显示装置及利用标记曝光和蚀刻制程稳定性的方法 | ||
| 摘要 | 本发明提供了一种用于监控曝光和蚀刻制程稳定性的标记、一种设置有该标记的显示装置以及一种利用上述标记监控曝光和蚀刻制程稳定性的方法。所述标记包括多条具有弯曲部的金属标识线，所述多条金属标识线相互间隔且平行设置，其中，间距最小的两条相邻的金属标识线之间的间距小于曝光制程的分辨率极限，间距最大的两相邻所述金属标识线之间的间距大于光罩设计值，其中，所述多条金属标识线中的至少一对相邻的金属标识线之间的间距等于待蚀刻区域两相邻金属走线之间的间距。 | ||
| 申请公布号 | CN106206545A | 申请公布日期 | 2016.12.07 |
| 申请号 | CN201610552970.1 | 申请日期 | 2016.07.14 |
| 申请人 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 发明人 | 郑忱;阙祥灯 |
| 分类号 | H01L23/544(2006.01)I;H01L21/67(2006.01)I | 主分类号 | H01L23/544(2006.01)I |
| 代理机构 | 深圳市铭粤知识产权代理有限公司 44304 | 代理人 | 孙伟峰;武岑飞 |
| 主权项 | 一种用于监控曝光和蚀刻制程稳定性的标记，其特征在于，所述标记包括多条具有弯曲部的金属标识线，所述多条金属标识线相互间隔且平行设置，其中，间隔最小的两条相邻的金属标识线之间的间距小于曝光制程的分辨率极限，间隔最大的两相邻所述金属标识线之间的间距大于光罩设计值，以及其中，所述多条金属标识线中的至少一对相邻的金属标识线之间的间距等于待蚀刻区域两相邻金属走线之间的间距。 | ||
| 地址 | 518132 广东省深圳市光明新区塘明大道9-2号 | ||