COMPOSITION FOR RESIST UNDERLAYER FILM FORMATION CONTAINING NOVOLAK RESIN INTO WHICH AROMATIC VINYL COMPOUND WAS INCORPORATED THROUGH ADDITION

摘要

[과제] 양호한 도포성막성을 발현하기 위한 리소그래피에 이용되는 용제에 대한 높은 용해성과 성막시에 발생하는 승화물을 저감하는 것이 가능한 레지스트 하층막 형성 조성물을 제공한다. [해결수단] 방향환 함유 화합물(A)의 방향환 구조와 방향족 비닐화합물(B)의 비닐기의 반응에 의해 얻어지는 구조기(C)를 갖는 노볼락수지를 포함하는 레지스트 하층막 형성 조성물.