发明名称 |
一种用于光刻机的光源掩模优化方法 |
摘要 |
一种用于光刻机的光源掩模优化方法,光源由对称的子光源组成,优化方法是梯度法。计算目标函数F对光源或掩模的梯度,包含计算目标函数F对空间像的梯度及计算空间像对光源或掩模的梯度两部分。采用使目标函数F最优的阈值进行掩模二值化。本发明适用于图形误差、光刻机工艺窗口、掩模误差增强因子等多种目标函数F,得到的对称光源保证了光刻机的远心性能,减少了掩模二值化对目标函数F的损失,有效提高了光刻成像质量。 |
申请公布号 |
CN104714372B |
申请公布日期 |
2016.12.07 |
申请号 |
CN201510097250.6 |
申请日期 |
2015.03.05 |
申请人 |
中国科学院上海光学精密机械研究所 |
发明人 |
闫观勇;李思坤;王向朝 |
分类号 |
G03F7/20(2006.01)I |
主分类号 |
G03F7/20(2006.01)I |
代理机构 |
上海新天专利代理有限公司 31213 |
代理人 |
张泽纯;张宁展 |
主权项 |
一种用于光刻机的光源掩模优化方法,优化方法为梯度法,目标函数为F,该目标函数F是关于空间像强度矢量I的函数,目标函数F包括图形误差、工艺窗口、图形位置误差、掩模误差增强因子,其特征在于,该方法包括如下步骤:1)初始化光源和掩模:所述的光源由子光源组成,每个子光源都是对称的,设定单独优化掩模的总次数为NM,单独优化光源的总次数为NS,同时优化光源和掩模的总次数为NSM,设定初始掩模迭代次数为0,初始光源迭代次数为0,初始光源掩模同时迭代的次数为0;2)计算目标函数F对掩模的梯度,所述的计算目标函数F对掩模的梯度分为两个步骤:i)计算目标函数F对空间像强度矢量I的梯度;ii.)计算空间像强度矢量I对掩模的梯度;将掩模迭代次数加1作为新的掩模迭代次数对掩模进行迭代更新;3)如果掩模迭代次数小于NM,则进行步骤2),否则转步骤4);4)计算目标函数F对光源的梯度,所述的计算目标函数F对光源的梯度分为两个步骤:i)计算目标函数F对空间像强度矢量I的梯度;ii)计算空间像强度矢量I对光源的梯度;将光源迭代次数加1作为新的光源迭代次数对光源进行迭代更新;5)如果光源迭代次数小于NS,则进行步骤4),否则转步骤6);6)如果光源掩模同时迭代的次数小于NSM,则转入步骤2)到5),并将光源掩模同时迭代的次数加1作为新的光源掩模同时迭代的次数,否则转步骤7);7)采用使目标函数F最优的阈值对掩模进行二值化。 |
地址 |
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