| 发明名称 |
一种超导回旋加速器真空排气系统 |
| 摘要 |
本发明涉及一种超导回旋加速器真空排气系统，该真空排气系统包括第一排气通路、第二排气通路及第三排气通路；所述第一排气通路设置在超导回旋加速器高频系统的高频内杆(7)内，所述第二排气通路设置在高频系统的高频内杆(7)与高频外导体(4)之间，所述第三排气通路设置在超导回旋加速器高频外导体(4)与主磁铁盖板(2)之间；第一排气通路、第二排气通路及第三排气通路均通过高频内杆(7)端部设置的D板(5)排出。本发明的超导回旋加速器真空排气系统，根据高频系统结构设计特点，布置多个真空排气通路，提高了超导回旋加速器真空排气的流导，增加超导加速器真空获得率，降低束流损失，提高束流品质。 |
| 申请公布号 |
CN106211537A |
申请公布日期 |
2016.12.07 |
| 申请号 |
CN201610739607.0 |
申请日期 |
2016.08.26 |
| 申请人 |
中国原子能科学研究院 |
发明人 |
潘高峰;张素平;张天爵;李振国 |
| 分类号 |
H05H7/14(2006.01)I;H05H13/00(2006.01)I |
主分类号 |
H05H7/14(2006.01)I |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
一种超导回旋加速器真空排气系统，其特征是：该真空排气系统包括第一排气通路、第二排气通路及第三排气通路；所述第一排气通路设置在超导回旋加速器高频系统的高频内杆(7)内，所述第二排气通路设置在高频系统的高频内杆(7)与高频外导体(4)之间，所述第三排气通路设置在高频系统的高频外导体(4)与超导回旋加速器主磁铁盖板(2)之间；第一排气通路、第二排气通路及第三排气通路均通过高频内杆(7)端部设置的D板(5)排出。 |
| 地址 |
102413 北京市房山区新镇三强路1号院 |
