发明名称 |
一种高亮度反极性的AlGaInP基发光二极管晶圆 |
摘要 |
一种高亮度反极性的AlGaInP基发光二极管晶圆,属于光电子技术领域,特别涉及AlGaInP四元系发光二极管的制造技术领域。本实用新型特点是:金属键合层和镜面层分别以各晶粒为单位呈分布式排列,各晶粒的金属键合层对应地包裹在相应的晶粒的ITO薄膜层下方的镜面层外;在各晶粒的主电极和N‑AlGaInP电流扩展层周围的发光区上设置介质膜导电孔层。本实用新型在电极下方P面和N面均形成了肖特基结,从而减小了电流的无效注入,提升了发光效率,可使后结工艺的切割道上没有金属粘结层,降低亮度损失,提升产品良率,减少后端工艺流程,降低切割成本,同时也避免了客户端在进行灌胶作业时,漏电、爬胶等问题。 |
申请公布号 |
CN205790050U |
申请公布日期 |
2016.12.07 |
申请号 |
CN201620529421.8 |
申请日期 |
2016.06.03 |
申请人 |
扬州乾照光电有限公司 |
发明人 |
李波;杨凯;何胜;徐洲;林鸿亮;张永;张双翔 |
分类号 |
H01L33/38(2010.01)I;H01L33/46(2010.01)I |
主分类号 |
H01L33/38(2010.01)I |
代理机构 |
扬州市锦江专利事务所 32106 |
代理人 |
江平 |
主权项 |
一种高亮度反极性的AlGaInP基发光二极管晶圆,包括衬底,在衬底下方设置背电极,在衬底上方依次设置金属键合层、镜面反射层、外延层和扩展电极,在扩展电极上设置主电极;所述镜面反射层由介质膜导电孔层、ITO薄膜层和镜面层组成;所述镜面层设置在金属键合层上方,ITO薄膜层设置在镜面层上方,介质膜导电孔层设置在ITO薄膜层上方;所述外延层包括依次设置在介质膜导电孔层上方的P‑GaP窗口层、缓冲层、P‑AlGaInP限制层、MQW多量子阱有源层、N‑AlGaInP限制层、N‑AlGaInP电流扩展层、粗化层和N‑GaAs欧姆接触层;其特征在于:所述金属键合层和镜面层分别以各晶粒为单位呈分布式排列,各晶粒的金属键合层对应地包裹在相应的晶粒的ITO薄膜层下方的镜面层外;在各晶粒的主电极和N‑AlGaInP电流扩展层周围的发光区上设置介质膜导电孔层。 |
地址 |
225009 江苏省扬州市维扬路108号 |