发明名称 透镜驱动装置以及方法
摘要 本发明提供一种对使用了音圈电动机的透镜移动时的速度变动进行抑制的透镜驱动装置以及方法。对线圈(25、26)的线圈位置(P)进行检测。第1存储表(33)基于磁通密度分布(BD)来预先存储每个线圈位置(P)的第1修正系数(C1)。从该第1存储表(33),读取与检测出的线圈位置(P)对应的第1修正系数(C1)。利用读取出的第1修正系数(C1),按每个线圈位置(P)来修正电流(I<sub>0</sub>)。使修正后的电流(I<sub>0</sub>×C1<sub>0</sub>)流过线圈(25、26),从而使得透镜(17)与线圈(25、26)一起在光轴方向移动。
申请公布号 CN104685398B 申请公布日期 2016.12.07
申请号 CN201380050736.3 申请日期 2013.08.26
申请人 富士胶片株式会社 发明人 下津臣一
分类号 G02B7/08(2006.01)I;H02K41/035(2006.01)I;H02P25/034(2016.01)I 主分类号 G02B7/08(2006.01)I
代理机构 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人 樊建中
主权项 一种透镜驱动装置,其特征在于,具备:透镜框,其保持透镜并能够在光轴方向移动;音圈电动机,其具有在所述光轴方向延伸的磁铁、和配置在所述磁铁的磁场内并且被安装在所述透镜框的线圈,通过在所述线圈流过电流而产生的电磁力,使得所述线圈与所述透镜框一体地在所述光轴方向移动;位置检测部,其检测所述光轴方向上的所述线圈相对于所述磁铁的线圈位置;第1存储表,其按每个所述线圈位置来存储对所述光轴方向上的所述磁铁的磁通密度分布中的降低部分进行补偿的第1修正系数;初始磁通密度存储部,其将所述磁铁的基准位置处的磁通密度存储为初始磁通密度;磁通密度测定部,其测定所述磁铁的所述基准位置处的磁通密度;磁通密度比率计算部,其求出作为所述初始磁通密度与由所述磁通密度测定部测定出的测定磁通密度的比率的磁通密度比率;系数修正部,其根据所述磁通密度比率,按每个所述线圈位置对存储在所述第1存储表中的所述第1修正系数进行修正;和控制部,其利用与由所述位置检测部检测出的所述线圈位置对应地从所述第1存储表读取出的所述第1修正系数,来控制流过所述线圈的电流。
地址 日本国东京都