发明名称 |
一种提高瞄准设备对偏目标棱镜适应性的光学系统 |
摘要 |
本发明涉及准直控制技术领域,是一种提高瞄准设备对偏目标棱镜适应性的瞄准准直的光学系统,主要瞄准光机设备为光电瞄准仪,主要涉及光电瞄准仪的光学系统,包括望远系统、发光系统、分光棱镜和横轴,望远系统和发光系统相互垂直且与横轴共同随动,发光系统内设有光束整形透镜组和分划板,光源经过光束整形透镜组整形后聚焦到分划板上,然后经分光棱镜由望远系统入射到目标棱镜上。本发明的提高瞄准设备对偏目标棱镜适应性的光学系统是通过对半导体激光光源整形和随动机构组件的优化设计,实现当目标棱镜相对发光系统出射光斑上下偏移±25mm,左右偏移±30mm条件下,准直零位偏差不大于10″,准直测量精度满足15″要求。 |
申请公布号 |
CN106199993A |
申请公布日期 |
2016.12.07 |
申请号 |
CN201610552121.6 |
申请日期 |
2016.07.14 |
申请人 |
北京航天发射技术研究所;中国运载火箭技术研究院 |
发明人 |
姜华;张书明;孙煜;李红;范毅;贺永喜;丁爽;王岩 |
分类号 |
G02B27/30(2006.01)I |
主分类号 |
G02B27/30(2006.01)I |
代理机构 |
北京国之大铭知识产权代理事务所(普通合伙) 11565 |
代理人 |
朱晓蕾 |
主权项 |
一种提高瞄准设备对偏目标棱镜适应性的光学系统,包括光电瞄准仪,其特征在于:所述光电瞄准仪包括望远系统(8)、发光系统(7)、横轴(5)和分光棱镜(6),所述望远系统(8)和发光系统(7)相互垂直且与横轴(5)共同随动,所述望远系统(8)和发光系统(7)共用分光棱镜(6),所述发光系统(7)内设有光束整形透镜组和分划板(4),光源经过光束整形透镜组整形后聚焦到分划板(4)上,然后经分光棱镜(6)由望远系统(8)入射到目标棱镜上,其中,所述光束整形透镜组包括在发光系统(7)内沿出射光路顺次设置的第一透镜(1)、第二透镜(2)和第三透镜(3),所述第一透镜(1)为双凹透镜,且具有曲率半径设置不同的第一曲面和第二曲面,所述第二透镜(2)为正透镜,且具有曲率半径设置不同的第三曲面、第四曲面和第五曲面,所述第三透镜(3)为正透镜,且具有曲率半径设置不同的第六曲面、第七曲面和第八曲面。 |
地址 |
100076 北京市丰台区南大红门路1号 |