发明名称 APPARATUS FOR TREATING SUBSTRATE
摘要 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 처리 장치는, 기판이 로딩되는 지지부, 상기 기판으로 광을 입사시켜 이미지 정보를 획득하고, 상기 이미지 정보로부터 상기 기판의 이상 여부를 감지하는 광 측정부, 상기 지지부 및 상기 광 측정부를 제어하고, 상기 광 측정부로부터 전송받은 상기 이미지 정보를 처리하는 제어부를 포함하되, 상기 제어부는, 상기 이미지 정보로부터 이상 신호가 검출되면 상기 기판에 진행되는 공정을 중단하는 인터락(interlock)을 발생시키는 인터락 제어부를 포함한다.
申请公布号 KR20160137836(A) 申请公布日期 2016.12.01
申请号 KR20150071872 申请日期 2015.05.22
申请人 삼성전자주식회사 发明人 백동석;신진;김성만
分类号 H01L21/66 主分类号 H01L21/66
代理机构 代理人
主权项
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