发明名称 |
一种降低石墨烯方阻的掺杂转移方法 |
摘要 |
本发明公开了一种降低石墨烯方阻的掺杂转移方法。本发明利用掺杂试剂对转移膜上的石墨烯薄膜进行掺杂,而后将掺杂后的石墨烯薄膜转移至目标衬底上,重复这一步骤,转移至少两层石墨烯薄膜。其中转移膜上的石墨烯也可以不掺杂,或者使用不同的掺杂试剂,进行不同的排列组合顺序的多次转移。通过此法可以方便快捷的得到大面积的低方阻石墨烯材料,所得材料具有良好的导电性和稳定性,同时可以有效的减少甚至避免石墨烯经掺杂转移后方阻衰减的问题。 |
申请公布号 |
CN104021881B |
申请公布日期 |
2016.11.30 |
申请号 |
CN201410243559.7 |
申请日期 |
2014.06.03 |
申请人 |
无锡格菲电子薄膜科技有限公司 |
发明人 |
杨军;邱玉锐;王炜;李慧峰 |
分类号 |
H01B13/00(2006.01)I;C01B31/04(2006.01)N |
主分类号 |
H01B13/00(2006.01)I |
代理机构 |
无锡华源专利商标事务所(普通合伙) 32228 |
代理人 |
林弘毅;聂汉钦 |
主权项 |
一种降低石墨烯方阻的掺杂转移方法,其特征在于,包括以下步骤:(1)将转移膜上的石墨烯薄膜进行清洗后烘烤;(2)用掺杂试剂对烘烤之后的石墨烯薄膜进行掺杂;(3)对掺杂之后的石墨烯薄膜进行预处理;(4)将步骤(1)得到的未掺杂的或者步骤(3)得到的掺杂并预处理的石墨烯薄膜转移至目标衬底上,进行烘烤之后去除转移膜;(5)重复步骤(1)~步骤(4)至少一次。 |
地址 |
214171 江苏省无锡市惠山经济开发区智慧路1号清华创新大厦A2005 |