发明名称 一种降低石墨烯方阻的掺杂转移方法
摘要 本发明公开了一种降低石墨烯方阻的掺杂转移方法。本发明利用掺杂试剂对转移膜上的石墨烯薄膜进行掺杂,而后将掺杂后的石墨烯薄膜转移至目标衬底上,重复这一步骤,转移至少两层石墨烯薄膜。其中转移膜上的石墨烯也可以不掺杂,或者使用不同的掺杂试剂,进行不同的排列组合顺序的多次转移。通过此法可以方便快捷的得到大面积的低方阻石墨烯材料,所得材料具有良好的导电性和稳定性,同时可以有效的减少甚至避免石墨烯经掺杂转移后方阻衰减的问题。
申请公布号 CN104021881B 申请公布日期 2016.11.30
申请号 CN201410243559.7 申请日期 2014.06.03
申请人 无锡格菲电子薄膜科技有限公司 发明人 杨军;邱玉锐;王炜;李慧峰
分类号 H01B13/00(2006.01)I;C01B31/04(2006.01)N 主分类号 H01B13/00(2006.01)I
代理机构 无锡华源专利商标事务所(普通合伙) 32228 代理人 林弘毅;聂汉钦
主权项 一种降低石墨烯方阻的掺杂转移方法,其特征在于,包括以下步骤:(1)将转移膜上的石墨烯薄膜进行清洗后烘烤;(2)用掺杂试剂对烘烤之后的石墨烯薄膜进行掺杂;(3)对掺杂之后的石墨烯薄膜进行预处理;(4)将步骤(1)得到的未掺杂的或者步骤(3)得到的掺杂并预处理的石墨烯薄膜转移至目标衬底上,进行烘烤之后去除转移膜;(5)重复步骤(1)~步骤(4)至少一次。
地址 214171 江苏省无锡市惠山经济开发区智慧路1号清华创新大厦A2005