发明名称 |
半导体基板的旋转保持装置 |
摘要 |
本发明提供一种半导体基板的保持装置及半导体基板的保持装置的输送装置,在反应炉内通过有机金属气相沉积法在半导体基板上以气相状态形成膜时,无需使用气轮法就能够在半导体基板上形成高品质的膜,不需要打开提供有气相物质的反应炉并用人手进行基板的取放,并且能够提高向反应炉供给的气相物质的供给效率。基座相对于旋转驱动轴以能够在上下方向进行装卸的方式固定,并且上述开口部贯通上述基座的厚度方向而形成,在上述基座的下方设有卡合部,上述基板支架在上下方向以可解除的方式与该卡合部卡合,从而基板支架能够通过上述基座的旋转而旋转。 |
申请公布号 |
CN103210484B |
申请公布日期 |
2016.11.30 |
申请号 |
CN201180000046.8 |
申请日期 |
2011.02.04 |
申请人 |
巴利欧司株式会社;微系统有限会社 |
发明人 |
山本晓 |
分类号 |
H01L21/683(2006.01)I;C23C16/44(2006.01)I;H01L21/205(2006.01)I |
主分类号 |
H01L21/683(2006.01)I |
代理机构 |
北京三友知识产权代理有限公司 11127 |
代理人 |
党晓林;王小东 |
主权项 |
一种半导体基板的旋转保持装置,为了通过有机金属气相沉积法在半导体基板以气相状态形成膜,所述半导体基板的旋转保持装置被使用在反应炉内,该半导体基板的旋转保持装置具有:基座,该基座形成为圆盘状并进行旋转运动;多个基板支架,所述基板支架形成为圆盘状,并以可装卸的方式配置在开设于所述基座的多个开口部内,并且所述基板支架形成为通过所述基座的旋转而在所述开口部内旋转,在所述基板支架的上表面部放置半导体基板;以及旋转驱动轴,该旋转驱动轴设置于所述基座的下方,用于使所述基座旋转,所述半导体基板的旋转保持装置的特征在于,所述基座相对于旋转驱动轴以能够在上下方向进行装卸的方式固定,并且,所述开口部贯通所述基座的厚度方向而形成,在所述基座的下方设有卡合部,形成于所述基板支架的下表面部的第二卡合突起与形成于所述卡合部的上表面的第一卡合突起在上下方向卡合,由此所述基板支架在上下方向以可解除的方式与该卡合部卡合,从而使基板支架通过所述基座的旋转而在所述开口部内旋转。 |
地址 |
日本兵库县 |