| 发明名称 | 用于集成电路的晶体管以及成像系统 | ||
| 摘要 | 本实用新型涉及用于集成电路的晶体管以及成像系统。根据本公开的一个方面，所述晶体管包括：衬底，所述衬底具有第一表面和第二表面；栅极导体，所述栅极导体在所述衬底的所述第一表面上方形成；以及栅极端子触点，所述栅极端子触点形成在所述衬底的所述第二表面上方。 | ||
| 申请公布号 | CN205752180U | 申请公布日期 | 2016.11.30 |
| 申请号 | CN201620467059.6 | 申请日期 | 2016.05.20 |
| 申请人 | 半导体元件工业有限责任公司 | 发明人 | R·马杜罗维;H·索雷麦尼;I·瑞姆 |
| 分类号 | H01L29/72(2006.01)I;H01L27/06(2006.01)I;H01L27/146(2006.01)I | 主分类号 | H01L29/72(2006.01)I |
| 代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人 | 刘倜 |
| 主权项 | 一种用于集成电路的晶体管，其特征在于，所述晶体管包括：衬底，所述衬底具有第一表面和第二表面；栅极导体，所述栅极导体在所述衬底的所述第一表面上方形成；以及栅极端子触点，所述栅极端子触点形成在所述衬底的所述第二表面上方。 | ||
| 地址 | 美国亚利桑那 | ||