VARIABLE IMAGE FIELD CURVATURE FOR OBJECT INSPECTION

摘要

광학 시스템의 필드 만곡은, 표면의 세그먼트들 각각의 이미지가 세그먼트를 가로질러 초점이 맞춰지도록 웨이퍼 표면의 지형을 기초로 하여 수정된다. 웨이퍼는 비평면형일 수 있다. 광학 시스템은 렌즈 요소들의 위치를 변화시킴으로써 필드 만곡을 수정하는 제어부에 연결되는 다중 요소 렌즈 시스템일 수 있다. 웨이퍼는 에지 그립 척 등의 척에 의해 유지될 수 있다. 다중 광학 시스템은 웨이퍼의 치수를 가로질러 배치될 수 있다.