| 发明名称 | 用于在半导体制造中控制等离子体的系统和方法 | ||
| 摘要 | 本发明的实施例提供了一种用于在半导体制造中控制等离子体的等离子体处理系统和方法。该系统包括被配置为生成等离子体的远程等离子体模块。该系统还包括被配置为接收等离子体的化合物混合室。该系统还包括被配置为接收来自化合物混合室的用于处理的等离子体的处理室。另外，该系统包括被配置为监控化合物混合室中的等离子体的检测模块。 | ||
| 申请公布号 | CN106169407A | 申请公布日期 | 2016.11.30 |
| 申请号 | CN201610107736.8 | 申请日期 | 2016.02.26 |
| 申请人 | 台湾积体电路制造股份有限公司 | 发明人 | 吴成宗;吕伯雄;刘定一;廖锡文;孔祥昇 |
| 分类号 | H01J37/32(2006.01)I;H01L21/67(2006.01)I | 主分类号 | H01J37/32(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京德恒律治知识产权代理有限公司 11409 | 代理人 | 章社杲;李伟 |
| 主权项 | 一种等离子体处理系统，包括：远程等离子体模块，连接至导管的上游端部并且被配置为生成等离子体；处理室，连接至所述导管的下游端部并且被配置为接收来自所述远程等离子体模块的所述等离子体以用于等离子体工艺；化合物混合室，包括被构造作为所述导管的一部分的流动路径；以及检测模块，连接至所述流动路径并且被配置为监控所述流动路径中的所述等离子体的至少一个参数。 | ||
| 地址 | 中国台湾，新竹 | ||