发明名称 Ceramic component and a manufacturing method of a plasma etching apparatus using a powder for ceramic parts
摘要 본 발명은 세라믹 부품용 파우더를 이용한 플라즈마 식각장치의 세라믹 부품 및 그 제조방법에 관한 것으로, 더욱 자세하게는 YO(이트리아), AlO(알루미나)을 포함하여 구성되는 세라믹 부품용 파우더를 이용한 플라즈마 식각장치용 세라믹 부품의 제조방법에 있어서, AlO(알루미나)분말과 SiO(석영)분말이 혼합된 분말 70~90질량%와, YO(이트리아)분말 10~30질량%로 배합하여 frit형태의 파우더(20)를 형성하여 세라믹 부품(10)의 표면에 분사한 후, 상기 파우더(20)가 분사된 세라믹 부품(10)을 1300~1600°C의 온도로 소성시켜 상기 파우더(20)가 녹으며 세라믹 부품(10)의 기공(11)으로 침투하여 매워주도록 제조함으로써, 소성 시 파우더가 녹으면서 부품에 형성된 기공을 채워주어 기계적 물성을 향상시키고, 파우더에는 이트리아가 포함되어 내 플라즈마 성을 향상할 수 있으며 무엇보다, 기존에 사용되는 반도체 장비 내부의 부품과 더불어 생산되어지는 반도체 장비 내부의 세라믹부품에 모두 적용이 가능하도록 하고 크랙이 발생되는 것을 방지하여 경제적 효율성을 높일 수 있는 유용한 발명인 것이다.
申请公布号 KR101680856(B1) 申请公布日期 2016.11.30
申请号 KR20140169094 申请日期 2014.11.28
申请人 주식회사 월덱스;금오공과대학교 산학협력단 发明人 허찬;배종식;이현권
分类号 C04B35/10;C04B35/101;C04B35/14;C04B35/505 主分类号 C04B35/10
代理机构 代理人
主权项
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