| 发明名称 | 机上显影型平版印刷版原版的处理方法以及印刷方法 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种机上显影型平版印刷版原版的处理方法以及印刷方法，所述机上显影型平版印刷版原版的处理方法对在支撑体上具有图像记录层的机上显影型平版印刷版原版进行图像曝光之后，在安装于印刷机之前，将含有亲水化剂的处理液涂布于距离平版印刷版原版的版面的端部1cm以内的区域，通过以涂布机构不与版面接触的方式进行所述涂布的处理方法以及印刷方法，不产生边缘污染，边缘部以外的未曝光部无污染，并且提供针对边缘污染的印刷时的容限较宽的平版印刷版。 | ||
| 申请公布号 | CN106170396A | 申请公布日期 | 2016.11.30 |
| 申请号 | CN201580010802.3 | 申请日期 | 2015.02.16 |
| 申请人 | 富士胶片株式会社 | 发明人 | 割石幸司 |
| 分类号 | B41N1/14(2006.01)I;B41C1/10(2006.01)I;G03F7/00(2006.01)I;G03F7/004(2006.01)I;G03F7/027(2006.01)I;G03F7/38(2006.01)I | 主分类号 | B41N1/14(2006.01)I |
| 代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人 | 蒋亭 |
| 主权项 | 一种机上显影型平版印刷版原版的处理方法，其对在支撑体上具有图像记录层的机上显影型平版印刷版原版进行图像曝光之后，在安装于印刷机之前，将含有亲水化剂的处理液涂布于距离平版印刷版原版的版面的端部1cm以内的区域，其中，以涂布机构不与版面接触的方式进行所述涂布。 | ||
| 地址 | 日本国东京都 | ||