一种溅射靶材自循环冷却装置

摘要

本实用新型属于磁控溅射领域，针对靶材散热技术，特别涉及一种溅射靶材自循环冷却装置。该装置包括靶材和散热结构，靶材采用合成射流方法降温，靶材对接密封在金属阴极上端，合成射流发生器固定在合成射流腔体内部，产生间歇射流气体，射流气体由合成射流腔体储存，沿喷嘴喷出，喷出的射流气体冲击靶材内侧肋片达到降温作用，升温后的气体进入散热通道，经降温的气体重新回到合成射流腔体循环使用。

主权项

一种溅射靶材自循环冷却装置，包括靶材(1)和散热结构，其特征在于：靶材(1)采用合成射流方法降温，靶材(1)对接密封在金属阴极(7)上端，合成射流发生器(5)固定在合成射流腔体(4)内部，产生间歇射流气体，射流气体由合成射流腔体(4)储存，沿喷嘴(3)喷出，喷出的射流气体冲击靶材(1)内侧肋片(2)达到降温作用，升温后的气体进入散热通道(6)，经降温的气体重新回到合成射流腔体(4)循环使用。