| 摘要 |
파장 200㎚ 이하의 노광광이 적용되는 포토마스크(100)를 제작하기 위해서 이용되는 포토마스크 블랭크이다. 포토마스크 블랭크는, 투광성 기판(1)과, 그 투광성 기판 상에 형성된 차광막(10)을 구비한다. 차광막은, 천이 금속 및 실리콘을 함유하는 차광층(12)과, 그 차광층 상에 접하여 형성되며, 산소 및 질소 중 적어도 한쪽을 함유하는 재료로 이루어지는 표면 반사 방지층(13)을 갖는다. 차광막은, 노광광에 대한 표면 반사율이 소정값 이하이고, 또한, 표면 반사 방지층의 막 두께가 2㎚의 범위에서 변동한 경우에서, 노광 파장에서의 표면 반사율을 그 변동 폭이 2％ 이내로 되도록 제어할 수 있는 특성을 갖는다. 이 특성이 얻어지도록 하는 굴절률 n 및 감쇠 계수 k를 갖는 표면 반사 방지층의 재료를 선정한다. |
