发明名称 EUV EUV RADIATION GENERATING DEVICE AND OPERATING METHOD THEREFOR
摘要 본 발명은 EUV 복사선(14)의 발생을 위해 목표 재료(13)가 목표 위치(Z)에 배치될 수 있는 진공 챔버(4), 그리고 구동 레이저 장치(2)로부터 상기 목표 위치(Z)를 향해 레이저 빔(5)을 안내하기 위한 빔 안내 챔버(3)를 포함하는 EUV 복사선 발생 장치(1)에 관한 것이다. 이러한 EUV 복사선 발생 장치(1)는 상기 진공 챔버(4)와 상기 빔 안내 챔버(3)의 사이에 배치되는 중간 챔버(18), 상기 빔 안내 챔버(3)로부터의 레이저 빔(5)의 유입을 위해 기밀 방식으로 상기 중간 챔버(18)를 밀봉하는 제 1 윈도우(19), 및 상기 진공 챔버(4)로의 레이저 빔(5)의 유출을 위해 기밀 방식으로 상기 중간 챔버(18)를 밀봉하는 제 2 윈도우(20)를 포함한다. 본 발명은 또한, EUV 복사선 발생 장치(1)를 작동시키기 위한 방법에 관한 것이다.
申请公布号 KR101679525(B1) 申请公布日期 2016.11.24
申请号 KR20157009566 申请日期 2013.09.19
申请人 트럼프 레이저시스템즈 포 세미컨덕터 매뉴팩처링 게엠베하 发明人 람베르트 마르틴;엔쯔만 안드레아스
分类号 H05G2/00 主分类号 H05G2/00
代理机构 代理人
主权项
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