| 发明名称 | 金属-绝缘体-金属电容器结构及其制作方法 | ||
| 摘要 | 本发明涉及一种金属-绝缘体-金属电容器结构的制作方法，包括如下步骤：依次制作底部金属层、介电层和顶部金属层；对所述顶部金属层进行抗反射处理形成抗反射层；在所述抗反射层上涂布光刻胶，进行图案工艺。本发明还涉及一种用于上述制作方法的金属-绝缘体-金属电容器结构。上述方法和结构由于顶部金属层经过抗反射处理，在进行图案工艺时，可以有效防止曝光时的驻波效应，使得光刻胶侧壁形貌整齐。 | ||
| 申请公布号 | CN106158578A | 申请公布日期 | 2016.11.23 |
| 申请号 | CN201510128285.1 | 申请日期 | 2015.03.23 |
| 申请人 | 无锡华润上华半导体有限公司 | 发明人 | 高永亮;陈辉 |
| 分类号 | H01L21/02(2006.01)I;H01L29/92(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/02(2006.01)I |
| 代理机构 | 广州华进联合专利商标代理有限公司 44224 | 代理人 | 邓云鹏 |
| 主权项 | 一种金属‑绝缘体‑金属电容器结构的制作方法，包括如下步骤：依次制作底部金属层、介电层和顶部金属层；对所述顶部金属层进行抗反射处理形成抗反射层；在所述抗反射层上涂布光刻胶，进行图案工艺。 | ||
| 地址 | 214028 江苏省无锡市国家高新技术产业开发区新洲路8号 | ||