Unit for supplying liquid and Apparatus for treating a substrate with the unit Method for supplying liquid

摘要

본 발명은 액 공급 유닛 및 이를 포함하는 기판 처리 장치와 액 공급 방법에 관한 것이다. 본 발명의 일 실시 예에 따르면, 기판을 처리하는 공간을 제공하는 챔버와 상기 챔버 내에서 기판을 지지하는 기판 지지 유닛과 그리고 상기 지지 유닛에 지지된 기판으로 액을 공급하는 액 공급 유닛을 포함하되 상기 액 공급 유닛은 노즐과 상기 노즐과 연결되는 액 공급라인과 상기 액을 저장하고 상기 액 공급라인과 연결되는 액 저장부재와 그리고 상기 액 공급라인 상에 설치되며, 상기 노즐로 액을 공급하는 압력을 제공하는 액 공급 밸브를 포함하는 기판 처리 장치를 포함한다.