发明名称 PROCESS GAS SEGMENTATION FOR STATIC REACTIVE SPUTTER PROCESSES
摘要 기판 상에서의 재료의 정적 증착을 위한 장치가 설명된다. 장치는, 기판 운송 방향을 따라서 이격된 셋 또는 그 초과의 캐소드들(cathodes)을 갖는 캐소드 어레이 및 하나 또는 그 초과의 프로세스 가스들을 제공하기 위한 가스 분배 시스템을 포함하고, 가스 분배 시스템은, 기판 운송 방향을 따른 둘 또는 그 초과의 포지션들에 대해서 독립적으로, 하나 또는 그 초과의 프로세스 가스들 중 적어도 하나의 프로세스 가스의 유량을 제어하도록 구성된다.
申请公布号 KR20160134786(A) 申请公布日期 2016.11.23
申请号 KR20167028850 申请日期 2014.03.18
申请人 APPLIED MATERIALS, INC. 发明人 KLOEPPEL ANDREAS;HANIKA MARKUS;ZENGEL CLAUS;SCHEER EVELYN
分类号 C23C14/00;C23C14/34;C23C14/35;H01J37/32;H01J37/34 主分类号 C23C14/00
代理机构 代理人
主权项
地址