发明名称 抛光组合设备
摘要 本发明的抛光组合设备包括有底座、用于打磨工件的打磨机,用于清除工件表面碎屑的清光机和用于把工件作用于打磨机进行打磨或把工件作用于清光机进行清光的机械臂,打磨机、清光机和机械臂分别设置在底座上,所述的打磨机包括有打磨机架,设置于打磨机架上的两组以上的打磨机构,打磨机构包括有两组并排设置的沙带轮组和驱动两组沙带轮组旋转打磨的第一电机驱动,所述的沙带轮组包括有沙带、带动沙带旋转的主动轮,用于支撑沙带的从动轮和用于驱动从动轮伸缩绷紧沙带的气缸驱动机构。本发明的抛光组合设备利用机械臂把工件作用于抛光机和清光机进行抛光和清光,并且抛光机设有两组以上的抛光机构可以对工件进行粗抛和精抛,适用范围广。
申请公布号 CN106141867A 申请公布日期 2016.11.23
申请号 CN201610721712.1 申请日期 2016.08.25
申请人 深圳市泽宇自动化设备有限公司 发明人 康怀旺
分类号 B24B27/00(2006.01)I;B24B21/18(2006.01)I;B24B21/20(2006.01)I;B24B41/02(2006.01)I;B24B47/20(2006.01)I;B24B55/06(2006.01)I 主分类号 B24B27/00(2006.01)I
代理机构 深圳市千纳专利代理有限公司 44218 代理人 黄良宝
主权项 一种抛光组合设备,其特征在于:所述的抛光组合设备包括有底座、用于打磨工件的打磨机,用于清除工件表面碎屑的清光机和用于把工件作用于打磨机进行打磨或把工件作用于清光机进行清光的机械臂,打磨机、清光机和机械臂分别设置在底座上,所述的打磨机包括有打磨机架,设置于打磨机架上的两组以上的打磨机构,所述的打磨机构包括有两组并排设置的沙带轮组和驱动两组沙带轮组旋转打磨的第一电机驱动,所述的沙带轮组包括有沙带、带动沙带旋转的主动轮,用于支撑沙带的从动轮和用于驱动从动轮伸缩绷紧沙带的气缸驱动机构,所述的第一电机驱动设置在打磨机架上,主动轮与第一电机驱动相连接,所述的从动轮通过从动轮支架滑动设置在打磨机架上,所述的气缸驱动机构驱动从动轮支架在打磨机架上滑动。
地址 518000 广东省深圳市光明新区公明街道西田社区第二工业园50栋
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