发明名称 一种柔性铜网栅基透明导电薄膜
摘要 本实用新型涉及光学薄膜领域,涉及一种柔性铜网栅基透明导电薄膜。导电薄膜包含:柔性透明薄膜衬底;一个减反增透层;以及一个铜网栅导电层;且所述减反增透层被布置在所述柔性透明薄膜衬底和铜网栅导电层之间。所述减反增透层由至少一层低折射率薄膜层和一层高折射率薄膜层交替叠加组成,所述铜网栅导电层由菱形或方形或六边形的铜线条和至少一层氧化铜薄膜层构成。本实用新型的柔性铜网栅基透明导电薄膜可以作为ITO导电薄膜的替代品,被广泛应用于触摸屏、柔性显示、电磁屏蔽等领域,相比传统的ITO导电薄膜,其生产成本更低,透过率更高,耐氧化性能更好,并且表面方阻至少高1个数量级,尤其适于大面积、高分辨率触摸屏的制备。
申请公布号 CN205722840U 申请公布日期 2016.11.23
申请号 CN201620497516.6 申请日期 2016.05.26
申请人 中国航空工业集团公司北京航空材料研究院 发明人 刘宏燕;颜悦;望咏林;伍建华;张官理
分类号 H01B5/14(2006.01)I 主分类号 H01B5/14(2006.01)I
代理机构 中国航空专利中心 11008 代理人 李建英
主权项 一种柔性铜网栅基透明导电薄膜,其特征是,导电薄膜包含:柔性透明衬底;一个减反增透层;以及一个铜网栅导电层;所述减反增透层被布置在所述柔性透明薄膜衬底和铜网栅导电层之间,其中,柔性透明衬底包含:聚对苯二甲酸乙二醇酯和双面加硬透明涂层,所述双面加硬透明涂层为紫外固化的聚丙烯酸酯涂层;减反增透层包含:低折射率薄膜层和高折射率薄膜层;铜网栅导电层包含铜网栅层和铜氧化物层。
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