发明名称 | 具有多个度量支撑单元的光学成像设备 | ||
摘要 | 本发明提供一种光学成像设备,其包含光学投射系统和支撑结构系统。该光学投射系统包含光学元件组,该光学元件组配置为在使用沿着曝光光路的曝光光的曝光工艺中将掩模图案的像转印至基板上。该支撑结构系统包含光学元件支撑结构和度量支撑结构。该光学元件支撑结构支撑该光学元件组,该度量支撑结构则支撑度量装置组,该度量装置组与该光学元件组关联并配置为采集代表各个光学元件在至少一个自由度至所有六个自由度的位置和定向中的至少一个的状态信息。该光学元件组包含第一光学元件子组和第二光学元件子组,该度量装置组则包含与该第一光学元件子组关联的第一度量装置子组和与该第二光学元件子组关联的第二度量装置子组。该度量支撑结构包含第一度量支撑子结构和第二度量支撑子结构,该第一度量支撑子结构支撑该第一度量装置子组,该第二度量支撑子结构支撑该第二度量装置子组。该第一度量支撑子结构及该第二度量支撑子结构单独地支撑于该支撑结构系统的负荷承载结构上。 | ||
申请公布号 | CN104380201B | 申请公布日期 | 2016.11.23 |
申请号 | CN201280073487.5 | 申请日期 | 2012.05.31 |
申请人 | 卡尔蔡司SMT有限责任公司 | 发明人 | Y-B.P.克万;E.鲁尼曼斯 |
分类号 | G03F7/20(2006.01)I | 主分类号 | G03F7/20(2006.01)I |
代理机构 | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人 | 邱军 |
主权项 | 一种光学成像设备,包含:‑光学投射系统;及‑支撑结构系统;‑所述光学投射系统包含光学元件组,该光学元件组配置为在使用沿着曝光光路的曝光光的曝光工艺中将掩模的图案的像转印至基板上;‑所述支撑结构系统包含光学元件支撑结构和度量支撑结构;‑所述光学元件支撑结构支撑所述光学元件组;‑所述度量支撑结构支撑度量装置组,所述度量装置组与所述光学元件组关联并配置为采集状态信息,所述状态信息代表所述光学元件的每一个在至少一个自由度至所有六个自由度中的位置和定向中的至少一个;‑所述光学元件组包含第一光学元件子组和第二光学元件子组;‑所述度量装置组包含与所述第一光学元件子组关联的第一度量装置子组和与所述第二光学元件子组关联的第二度量装置子组;‑所述度量支撑结构包含第一度量支撑子结构和第二度量支撑子结构;‑所述第一度量支撑子结构支撑所述第一度量装置子组;‑所述第二度量支撑子结构支撑所述第二度量装置子组;‑所述第一度量支撑子结构与所述第二度量支撑子结构单独地支撑于所述支撑结构系统的负荷承载结构上,其中所述第一度量支撑子结构经由第一振动隔离装置而支撑于所述负荷承载结构上;和/或‑所述第二度量支撑子结构经由第二振动隔离装置而支撑于所述负荷承载结构上。 | ||
地址 | 德国上科亨 |