发明名称 X射线处理装置及X射线处理方法
摘要 本发明的X射线处理装置(10)包括:作业平台(11),载置被处理体(101);X射线处理机构(12R、12L),对配置在作业平台(11)上的指定处理区域的被处理体照射X射线进行处理;X射线屏蔽罩(21),覆盖这些处理区域;X射线屏蔽遮帘,配置在X射线屏蔽罩(21)的搬入口(22);及按压装置(15R、15L),配置在被处理体向搬入口(22)的搬送路(11b)上,且按压并压扁残存在被处理体(101)的端部的毛边部。
申请公布号 CN103586931B 申请公布日期 2016.11.23
申请号 CN201310261306.8 申请日期 2013.06.27
申请人 精工精密有限公司 发明人 盐泽育夫;齐藤努
分类号 B26F1/16(2006.01)I;B26D7/00(2006.01)I 主分类号 B26F1/16(2006.01)I
代理机构 上海市华诚律师事务所 31210 代理人 谈晨雯
主权项 一种X射线处理装置,其特征在于包括:作业平台(11),载置被处理体(101);X射线处理机构(12R、12L),对配置在所述作业平台(11)上的指定处理区域(11a)的所述被处理体(101)照射X射线进行处理;X射线屏蔽罩(21),配置在所述作业平台(11)上,具有所述被处理体(101)的搬入口(22),且覆盖所述处理区域(11a);X射线屏蔽机构(158a~158c),配置在所述X射线屏蔽罩(21)的所述搬入口(22);及按压机构(15R、15L),配置在所述被处理体(101)向所述搬入口(22)的搬送路(11b)上,且按压并压扁残存在所述被处理体(101)的边部的毛边部(102),所述按压机构(15R、15L)被配置在所述X射线屏蔽罩(21)的正面下部上。
地址 日本国千叶县习志野市