| 发明名称 | 一种曝光装置及曝光方法 | ||
| 摘要 | 本发明一种曝光装置，其特征在于，包括：一照明系统，用于提供曝光所用之光束；一投影物镜阵列，包括N个投影物镜，用于将位于一掩模板上的图形投影至一基板，N为大于1的自然数；一六自由度探测器阵列，由若干六自由度探测器组成，用于测量一对准标记的水平向和垂直向位置；一掩模台，用于承载所述掩模板并提供位移；一工件台，用于承载所述基板并提供位移；所述掩模板与所述基板相对同步移动。 | ||
| 申请公布号 | CN106154760A | 申请公布日期 | 2016.11.23 |
| 申请号 | CN201510175999.8 | 申请日期 | 2015.04.15 |
| 申请人 | 上海微电子装备有限公司 | 发明人 | 程琦;陈飞彪 |
| 分类号 | G03F7/20(2006.01)I;G03F9/00(2006.01)I | 主分类号 | G03F7/20(2006.01)I |
| 代理机构 | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人 | 屈蘅 |
| 主权项 | 一种曝光装置，其特征在于，包括： 一照明系统，用于提供曝光所用之光束； 一投影物镜阵列，包括N个投影物镜，用于将位于一掩模板上的图形投影至一基板， N为大于1的自然数； 一六自由度探测器阵列，由若干六自由度探测器组成，用于测量一对准标记的水平向和垂直向位置； 一掩模台，用于承载所述掩模板并提供位移； 一工件台，用于承载所述基板并提供位移；所述掩模板与所述基板相对同步移动。 | ||
| 地址 | 201203 上海市浦东新区张江高科技园区张东路1525号 | ||