| 摘要 |
본 발명은 자외선, 원자외선, 전자선, X선, 엑시머 레이저, γ선 및 싱크로트론 방사선으로부터 선택되는 고에너지선에 감응하여 산을 발생하는 화학식 (1a) 및/또는 (1b)로 표시되는 구조의 반복 단위와, 화학식 (2a) 및/또는 (2b)로 표시되는 구조의 락톤환을 갖는 반복 단위와, 화학식 (3)으로 표시되는 산불안정 단위를 가짐과 동시에, 어느 쪽의 반복 단위도 수산기를 포함하지 않는 고분자 화합물에 관한 것이다.본 발명의 고분자 화합물은 포지티브형 레지스트 재료의 베이스 중합체로서 유용하고, 상기 고분자 화합물을 포함하는 포지티브형 레지스트 재료는 미세 패턴의 형상을 직사각형으로 함와 동시에, 패턴 붕괴 내성을 향상시킬 수 있다. |
