发明名称 |
氧燃烧装置的废气处理系统 |
摘要 |
具备前部杂质去除装置(6)和至少一段后部杂质去除装置(6a),所述前部杂质去除装置(6)包含将源自氧燃烧装置(1)的废气压缩、使废气中的杂质为水溶性的压缩机(3),和将用该压缩机(3)压缩了的废气冷却、冷凝水分,并移出溶解有杂质的排水(4)的冷却器(5),所述后部杂质去除装置(6a),具有以比前述压缩机(3)高的压力压缩废气的后部压缩机(3a)和后部冷却器(5a),并移出排水(4a)。 |
申请公布号 |
CN103347591B |
申请公布日期 |
2016.11.23 |
申请号 |
CN201180067092.X |
申请日期 |
2011.02.08 |
申请人 |
株式会社IHI |
发明人 |
内藤俊之 |
分类号 |
B01D53/60(2006.01)I;B01D53/62(2006.01)I;B01D53/77(2006.01)I;F01N3/04(2006.01)I;F23J15/06(2006.01)I;F23L7/00(2006.01)I |
主分类号 |
B01D53/60(2006.01)I |
代理机构 |
中国专利代理(香港)有限公司 72001 |
代理人 |
蔡晓菡;孟慧岚 |
主权项 |
氧燃烧装置的废气处理系统,其为用于去除源自氧燃烧装置的废气中含有的杂质的废气处理系统,其具备前部杂质去除装置和至少一段后部杂质去除装置,所述前部杂质去除装置包含将源自氧燃烧装置的废气压缩、使废气中的杂质为水溶性的压缩机,和将通过该压缩机压缩了的废气冷却、冷凝水分,并移出溶解有杂质的排水的冷却器,所述后部杂质去除装置,具有以比所述压缩机高的压力压缩废气的后部压缩机和后部冷却器,并移出排水,其还具备:在所述前部杂质去除装置的所述压缩机的前段将源自所述氧燃烧装置的废气冷却,并移出溶解有杂质的排水的前部冷却器;以及在所述前部冷却器的前段将源自所述氧燃烧装置的废气用水加湿,从而在所述前部冷却器中产生排水的喷雾器。 |
地址 |
日本东京都 |