二氧化硅光学镀膜材料的制备方法及二氧化硅材料

摘要

α‑SiO₂光学镀膜材料的制备方法，是一种制备光学镀膜材料的新的工艺方法，它省去了通常制备玻璃态SiO₂光学镀膜材料需在1700℃以上高温熔融的复杂的工艺流程，代之而来的制备结晶态α‑SiO₂光学镀膜材料，只需在较低温度不超过600℃的条件下进行热处理即可获得镀膜效果极佳的光学镀膜材料。大幅度地降低了光学镀膜材料的制备成本、具有显著的经济效益。

主权项

一种α‑SiO₂光学镀膜材料的制备方法，是通过矿石精选、清洁处理、烘干、粉碎过筛、高温处理实现的，其特征在于：对经过精选、清洁处理、烘干后的矿石进行粉碎过筛，要求粉碎机和筛子的材质采用硬质材料制成，并对α‑SiO₂光学镀膜材料无污染，筛网的孔从小至大形成系列，以满足所需光学镀膜材料的粒度要求，根据粒度大小的要求，选用适合的筛孔过筛，对过筛的α‑SiO₂用高纯度水去粉末清洗后再进行热处理，即将α‑SiO₂装在对α‑SiO₂料无污染的坩埚里，并将装满α‑SiO₂料的坩埚放进大气加热炉中进行热处理，热处理的温控一时间曲线表示为从室温匀速升温4小时以上，温度升至570℃‑600℃，再恒温处理8小时以上，接着是均速降温24小时以上，温度降至室温，对经过热处理的α‑SiO₂进行质量筛选，把变色的含有复杂的α‑SiO₂全部去掉。