| 发明名称 | 表面具有微细凹凸结构的透明薄膜、其制造方法及用于制造透明薄膜的基材薄膜 | ||
| 摘要 | 本发明涉及透明薄膜，其中，在具有下述粗糙面的由丙烯酸系树脂形成的基材薄膜的粗糙面上形成有固化层，前述固化层具有凸部或凹部的平均周期为20nm以上且400nm以下的微细凹凸结构，前述粗糙面的基于JIS B0601：2001的最大谷深Pv为0.1～3μm、且基于JIS B0601：2001的轮廓单元的平均宽度RSm为10μm以下，在进行基于JIS K5400的使用间隔2mm的100个格子的划格法附着力试验时，附着于前述基材薄膜的前述固化层的网格数为51以上。 | ||
| 申请公布号 | CN103813896B | 申请公布日期 | 2016.11.23 |
| 申请号 | CN201280043798.7 | 申请日期 | 2012.09.07 |
| 申请人 | 三菱丽阳株式会社 | 发明人 | 内田雅行;小岛克宏;地纸哲哉 |
| 分类号 | B29C59/04(2006.01)I;B29C39/18(2006.01)I;B32B3/30(2006.01)I;H01L21/027(2006.01)I;B29L7/00(2006.01)I;B29L9/00(2006.01)I;B29L11/00(2006.01)I | 主分类号 | B29C59/04(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人 | 刘新宇;李茂家 |
| 主权项 | 一种透明薄膜，其中，在具有下述粗糙面的由丙烯酸系树脂形成的基材薄膜的粗糙面上形成有固化层，所述固化层具有凸部或凹部的平均周期为20nm以上且400nm以下的微细凹凸结构，所述粗糙面的基于JIS B 0601：2001的最大谷深Pv为0.1～2.8μm、且基于JIS B 0601：2001的轮廓单元的平均宽度RSm为10μm以下，在进行基于JIS K 5400的使用间隔2mm的100个格子的划格法附着力试验时，附着于所述基材薄膜的所述固化层的网格数为51以上。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||