发明名称 |
一种两段式臭氧催化氧化装置 |
摘要 |
一种两段式臭氧催化装置,该装置为塔形,其特征在于装置空间采用上下布置的结构的组合设计,其特征为:装置的高度6.5‑9.1米,直径1~3.8m,底部设置进水口、气水进口、排放口、泄空口,装置内具有第一段臭氧氧化区和第二段臭氧催化氧化区,第一级催化氧化区位于第二段臭氧氧化区的上部,第二段臭氧催化氧化区距塔底2.5‑5.2米,第二段臭氧催化氧化区设有进气布气装置,其内设有臭氧曝气盘和气洗管,设有空气进口、臭氧进口人孔和事故排放口,第二段臭氧氧化区上部为装有催化剂填料的第一段臭氧催化反应区,其内桶填料填充率为65%‑80%,塔顶设有排气口、尾气排放口、人口/进料口和呼吸倒接扣,整个反应装置处于密封状态。 |
申请公布号 |
CN205710048U |
申请公布日期 |
2016.11.23 |
申请号 |
CN201620341057.2 |
申请日期 |
2016.04.21 |
申请人 |
清水源(上海)环保科技有限公司 |
发明人 |
薛通;王正勇;黄晓亮;张扬;姜中生;傅燎原 |
分类号 |
C02F1/78(2006.01)I |
主分类号 |
C02F1/78(2006.01)I |
代理机构 |
北京华仲龙腾专利代理事务所(普通合伙) 11548 |
代理人 |
黄玉珏 |
主权项 |
一种两段式臭氧催化装置,该装置为塔形,其特征在于装置空间采用上下布置的结构的组合设计,其特征为:装置的高度6.5‑9.1米,直径1~3.8m,底部设置进水口、气水进口、排放口、泄空口,装置内具有第一段臭氧氧化区和第二段臭氧催化氧化区,第一级催化氧化区位于第二段臭氧氧化区的上部,第二段臭氧催化氧化区距塔底2.5‑5.2米,第二段臭氧催化氧化区设有进气布气装置,其内设有臭氧曝气盘和气洗管,第二段臭氧催化氧化区的底端设有空气进口、臭氧进口、人孔和事故排放口,第二段臭氧氧化区上部为装有催化剂填料的第一段臭氧催化反应区,其内桶填料填充率为65%‑80%,塔顶设有排气口、臭氧尾气排放口、人口/进料口和呼吸倒接口,整个反应装置处于密封状态。 |
地址 |
上海市普陀区中山北路1777号611室-5 |