| 发明名称 |
一种LCoS微显示驱动面板制备工艺 |
| 摘要 |
本发明涉及一种LCoS微显示驱动面板制备工艺，其包括：硅衬底及集成电路器件制备；PECVD(等离子增强化学气相淀积)方法生长介质；CMP(化学机械抛光)；铝布线步骤；刻通孔；溅射Ti/TiN和钨，反刻钨，形成钨塞；制备镜面反射电极；制备薄盒，灌装液晶；优选地，所述镜面反射电极采用ITO来制作。本发明的方法用ITO代替铝制备镜面反射电极，提高了镜面反射电极反射率和抗氧化性。 |
| 申请公布号 |
CN106154595A |
申请公布日期 |
2016.11.23 |
| 申请号 |
CN201510161388.8 |
申请日期 |
2015.04.08 |
| 申请人 |
杜寰 |
发明人 |
杜寰 |
| 分类号 |
G02F1/13(2006.01)I;G09G3/36(2006.01)I |
主分类号 |
G02F1/13(2006.01)I |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
一种LCoS微显示驱动面板制备工艺，其特征在于，包括以下步骤：——硅衬底及集成电路器件制备；——PECVD(等离子增强化学气相淀积)方法生长介质；——CMP(化学机械抛光)；——铝布线步骤；——刻通孔；——溅射Ti/TiN和钨，反刻钨，形成钨塞；——制备镜面反射电极；——制备薄盒，灌装液晶，所述镜面反射电极采用ITO来制作。 |
| 地址 |
100086 北京市海淀区龙岗路69号水木天成3-1202 |
